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技術(shù)文章

  • 2023

    2-22

    什么是成像？

    什么是成像？幾十年來(lái)，成像技術(shù)的進(jìn)步為工業(yè)和消費(fèi)市場(chǎng)空間帶來(lái)了改善，并加速了幾乎所有行業(yè)的增長(zhǎng)，包括工廠自動(dòng)化、自主系統(tǒng)、物流和供應(yīng)鏈管理、生命科學(xué)和粒子分析、電子和半導(dǎo)體檢測(cè)、航空航天和國(guó)防以及計(jì)量和3D測(cè)量。智能手機(jī)、4K電視和個(gè)人電腦等高品質(zhì)消費(fèi)電子產(chǎn)品每天都在取得進(jìn)步，由于成像系統(tǒng)為制造過(guò)程提供了更高的可靠性和可重復(fù)性，這些產(chǎn)品的制造變得更加容易。當(dāng)消費(fèi)者在線購(gòu)買(mǎi)商品時(shí)，由于簡(jiǎn)化和優(yōu)化了存儲(chǔ)設(shè)施和產(chǎn)品倉(cāng)庫(kù)中使用的物流流程，這些進(jìn)步的好處也會(huì)以極大減少運(yùn)輸和交付時(shí)間的形...

  • 2023

    2-21

    什么是微型光譜儀？

    光譜儀器是應(yīng)用光學(xué)技術(shù)、電子技術(shù)及計(jì)算機(jī)技術(shù)對(duì)物質(zhì)的成分及結(jié)構(gòu)等進(jìn)行分析和測(cè)量的基本設(shè)備，廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)、工業(yè)控制、化學(xué)分析、食品品質(zhì)檢測(cè)、材料分析、航空航天遙感及科學(xué)教育等領(lǐng)域。傳統(tǒng)的光譜儀光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，需通過(guò)旋轉(zhuǎn)光柵對(duì)整個(gè)光譜進(jìn)行掃描，測(cè)量速度慢，并且對(duì)某些樣品還需經(jīng)過(guò)特定的預(yù)處理，并要放在儀器的固定樣品室內(nèi)進(jìn)行測(cè)量。存在著結(jié)構(gòu)復(fù)雜、使用環(huán)境受限、不便攜帶及價(jià)格昂貴等不足，不能滿足現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)和實(shí)時(shí)監(jiān)控的需求。與此相比，微型光譜儀有很多優(yōu)點(diǎn)，如：速度快、價(jià)格低、體積小...

  • 2023

    2-17

    傳感器性能和限制

    傳感器性能和限制為了更好地理解理論和制造的鏡頭性能之間可能發(fā)生的差異，示例1-3顯示了在傳感器水平上發(fā)生的情況，以及如何使用不同的波長(zhǎng)和f/#s對(duì)傳感器的輸出進(jìn)行可視化。數(shù)字從理論過(guò)渡到現(xiàn)實(shí)世界的例子，包括像差和鏡頭制造誤差。如在MTF曲線和鏡頭性能中注意到的，波長(zhǎng)越短，理論上成像系統(tǒng)的性能上限越大。近年來(lái)，藍(lán)色LED已成為提高小型像素傳感器性能的可靠選擇。Ex.1：在低f/#（理論值）時(shí)，光斑尺寸和像素輸出隨波長(zhǎng)的變化圖1A和1B顯示了四個(gè)不同的波長(zhǎng)被wan美成像，除了在包...

  • 2023

    1-24

    關(guān)于耦合器的分類介紹

    耦合器將信號(hào)耦合出一部分能量，耦合出的能量常用于信號(hào)的檢測(cè)或監(jiān)測(cè)，比如功率測(cè)量和檢波等。廣泛應(yīng)用于各領(lǐng)域，不論是生活中還是社會(huì)生產(chǎn)領(lǐng)域，都離不開(kāi)其使用。工作原理是：當(dāng)輸入電信號(hào)加到輸入端發(fā)光器件LED上，LED發(fā)光，光接受器件接受光信號(hào)并轉(zhuǎn)換成電信號(hào)，然后將電信號(hào)直接輸出或者將電信號(hào)放大處理成標(biāo)準(zhǔn)數(shù)字電平輸出。耦合器是一種把紅外光發(fā)射器件和紅外光接受器件以及信號(hào)處理電路等封裝在同一管座內(nèi)的器件。種類主要有：一、光電耦合器也叫作光電阻隔器，簡(jiǎn)稱為光耦，它是由三部分組成，即光的接...

  • 2023

    1-17

    關(guān)于二極管的七大作用介紹

    二極管是雙端子電子元件，傳導(dǎo)電流主要在一個(gè)方向(非對(duì)稱電導(dǎo))。它在一個(gè)方向上具有低電阻(理想情況下為零)，在另一個(gè)方向上具有高電阻(理想情況下為無(wú)限)。二極管真空管或熱電子二極管是一種具有兩個(gè)電極，一個(gè)加熱的陰極和一個(gè)板的真空管，其中電子只能沿一個(gè)方向從陰極到板流動(dòng)。現(xiàn)在的電子產(chǎn)品中，元件應(yīng)用較多的是半導(dǎo)體材料。在集成電路中，也是應(yīng)用的半導(dǎo)體單晶硅作為基底，通過(guò)離子注入技術(shù)而添加了硼和磷元素從而構(gòu)成數(shù)以億計(jì)的半導(dǎo)體晶體管。對(duì)于半導(dǎo)體元件來(lái)說(shuō)，發(fā)揮作用的是PN結(jié)。在二極管中，由...

  • 2023

    1-12

    什么是紅外顯示卡？

    紅外顯示卡是基于被稱為“電子捕獲”的工作原理。以熒光體為基礎(chǔ)的化合物，用來(lái)吸收和“誘捕”來(lái)自短波的光能量，從更長(zhǎng)的紅外波長(zhǎng)激發(fā)后，以可見(jiàn)光的形式釋放儲(chǔ)存的光。可以觀察到的局部輝光，跟存儲(chǔ)光能量和激發(fā)感應(yīng)區(qū)域的紅外光功率大小有關(guān)。紅外顯示卡是將紅外輻射轉(zhuǎn)換為可見(jiàn)輻射，提供紅外光的視覺(jué)圖像。卡片由紅外材料經(jīng)多道工序嚴(yán)密制作做成，它可以從普通光源中獲取能量。當(dāng)入射的紅外光激發(fā)紅外材料，儲(chǔ)存的能量就以可以光的形式釋放出來(lái)，具有高亮度，高對(duì)比度及邊緣明銳度強(qiáng)的特點(diǎn)。將紅外顯示卡的上轉(zhuǎn)換...

  • 2022

    12-19

    大型非球面：實(shí)現(xiàn)高功率光學(xué)系統(tǒng)

    大型非球面：實(shí)現(xiàn)高功率光學(xué)系統(tǒng)在光學(xué)應(yīng)用中，更高功率激光器的發(fā)展正在推動(dòng)光學(xué)鍍膜技術(shù)的極限。然而，處理更高功率光束的另一種解決方案是增加光束直徑，這需要更大的光學(xué)元件（圖1）。這降低了光學(xué)元件上的功率或能量密度，降低了激光誘導(dǎo)損傷的可能性。需要沿著光束路徑進(jìn)一步延伸的大光束擴(kuò)展光學(xué)器件和聚焦透鏡。光收集系統(tǒng)是增加光學(xué)器件尺寸的另一個(gè)驅(qū)動(dòng)因素。更多的光可以被具有更大表面積的光學(xué)器件收集。在這兩種情況以及許多其他情況下，還可以通過(guò)使用非球面透鏡而不是球面透鏡來(lái)提高光學(xué)系統(tǒng)的性能。...

  • 2022

    12-13

    確定連續(xù)激光器損傷閾值的挑戰(zhàn)

    確定連續(xù)激光器損傷閾值的挑戰(zhàn)使用環(huán)境對(duì)連續(xù)波（CW）激光損傷閾值的影響比對(duì)脈沖激光系統(tǒng)的影響更大，因此CW激光系統(tǒng)用戶需要更加謹(jǐn)慎。CW激光器的損傷閾值通常規(guī)定為在給定波長(zhǎng)下測(cè)量的線性功率密度。用戶不應(yīng)過(guò)于依賴光學(xué)元件的指/定CW損傷閾值，而不首先考慮可能改變?cè)撝档脑S多參數(shù)：激光功率、光束直徑和環(huán)境測(cè)試條件等。定義與區(qū)別：ISO標(biāo)準(zhǔn)將激光誘導(dǎo)損傷閾值（LIDT）定義為“光學(xué)器件推測(cè)的損傷概率為零的最高激光輻射量”。脈沖激光和連續(xù)激光的工作方式不同，因此表現(xiàn)出不同的損傷機(jī)制。脈...

  • 2022

    12-8

    Chroma濾光片的命名規(guī)則你清楚嗎

    Chroma濾光片的產(chǎn)品系列主要包括帶通，多波段帶通，長(zhǎng)通，短通，陷波，二向色鏡等。按應(yīng)用可以分為熒光，拉曼，TIRF，機(jī)器視覺(jué)以及天文等類別。Chroma濾光片的典型應(yīng)用主要概括如下：流式細(xì)胞儀，熒光原位雜交(FISH)，熒光定量PCR，TIRF成像，雙光子成像，超分辨成像，其他應(yīng)用如(Raman濾光片、機(jī)器視覺(jué)上轉(zhuǎn)換大氣檢測(cè)等和光相關(guān)的應(yīng)用)。Chroma濾光片的命名規(guī)則：?前綴AT:磁控濺射AT系列濾光片，包括激發(fā)片，發(fā)射片和二向色鏡。ET:磁控濺射ET系列濾光片，包括...

  • 2022

    11-30

    Nebulal™技術(shù)：納米結(jié)構(gòu)抗反射表面

    Nebulal™技術(shù)：納米結(jié)構(gòu)抗反射表面Nebulal™技術(shù)是EdmundOptics®開(kāi)發(fā)的用于高功率激光應(yīng)用的傳統(tǒng)薄膜抗反射（AR）涂層的替代品。亞波長(zhǎng)表面結(jié)構(gòu)被蝕刻到光學(xué)器件中，與傳統(tǒng)涂層相比具有許多優(yōu)勢(shì)，包括高寬帶傳輸和近體激光誘導(dǎo)損傷閾值（LIDT）（圖1）。激光系統(tǒng)集成商通過(guò)將采用Nebulal™技術(shù)的光學(xué)組件整合到其系統(tǒng)中，可以最大限度地提高系統(tǒng)吞吐量，并降低激光誘導(dǎo)損傷的可能性。圖1：對(duì)于高功率激光應(yīng)用，納米結(jié)構(gòu)抗反...
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